Meta za prskanje hafnijevim oksidom (HfO2).
Meta za prskanje hafnijevim oksidom (HfO2).

Meta za prskanje hafnijevim oksidom (HfO2).

Cirkonij (ZrO2), također poznat kao cirkonijev dioksid, vrlo je važan keramički materijal visokih performansi. Zbog svoje visoke točke taljenja, visoke čvrstoće na savijanje i kemijske stabilnosti, široko se koristi u raznim industrijskim primjenama, uključujući vatrostalne materijale, abrazivne materijale i naprednu keramiku.
Pošaljite upit
Opis proizvoda

 

Cirkonij (ZrO2), također poznat kao cirkonijev dioksid, vrlo je važan keramički materijal visokih performansi. Zbog svoje visoke točke taljenja, visoke čvrstoće na savijanje i kemijske stabilnosti, široko se koristi u raznim industrijskim primjenama, uključujući vatrostalne materijale, abrazivne materijale i naprednu keramiku. U tehnologiji tankog filma i industriji premaza, mete od cirkonijevog oksida posebno su kritične. Oni su temeljni materijal za postizanje visokokvalitetnih premaza za proizvodnju ključnih komponenti kao što su elektronički zasloni, solarni paneli i optički uređaji.

 

Primjena mete za raspršivanje HfO2

 

Primjena u tehnologiji taloženja tankog filma

Ciljevi od cirkonijevog oksida igraju ključnu ulogu u tehnologiji taloženja tankog filma, posebno u pripremi visokoučinkovitih i višenamjenskih materijala tankog filma. Ove tehnologije uglavnom uključuju:

1. Magnetronsko raspršivanje

Princip i postupak: Koristeći metu kao izvor raspršivanja, meta se bombardira magnetskim poljem za kontrolu plazme u vakuumskom okruženju, tako da se atomi ili molekule mete raspršuju na podlogu i formiraju tanki film.

Prednosti cirkonijevih meta: Omogućuju visoke čistoće i ujednačene tanke filmove, posebno pogodne za proizvodnju elektroničkih i optoelektroničkih uređaja visokih performansi.

2. Isparavanje snopom elektrona

Princip i postupak: Koristite snop elektrona visoke energije za ozračivanje mete, tako da površinski atomi ispare i talože se na ohlađenu podlogu kako bi formirali tanki film.

Prednosti cirkonijevih meta: Sposobnost proizvodnje tankih filmova s ​​izvrsnim fizičkim svojstvima pri nižim radnim pritiscima i većim brzinama taloženja.

 

Specifične primjene u industriji poluvodiča i optoelektronici

 

Primjena cirkonijevih meta u industriji poluvodiča i optoelektronici uglavnom se ogleda u upotrebi kao materijala za visokokvalitetne izolacijske slojeve i antirefleksne slojeve. Konkretne primjene su sljedeće:

1. Kao visoko-k dielektrični materijal

Pojedinosti o primjeni: U naprednim poluvodičkim uređajima, cirkonijev oksid se koristi kao visoko-k dielektrični materijal, koji može učinkovito poboljšati performanse tranzistora.

Tehničke prednosti: Cirkonij oksid ima visoku dielektričnu konstantu i dobru toplinsku stabilnost, što ga čini idealnim materijalom za povećanje kapaciteta tranzistora i smanjenje struje curenja.

2. Optičke prevlake

Pojedinosti o primjeni: Cirkonij oksid se koristi za izradu premaza za optičke komponente kao što su zrcala i zaštitna stakla, pružajući visok indeks loma i izvrsnu otpornost na trošenje.

Tehničke prednosti: Premazi od cirkonijevog oksida mogu povećati izdržljivost i performanse optičkih uređaja, posebno u laserskim sustavima velike snage.

3. Primjena u tehnologiji tvrdih diskova

Pojedinosti o primjeni: U proizvodnji tvrdih diskova, mete od cirkonijevog oksida koriste se za proizvodnju filmova otpornih na habanje i koroziju.

Tehničke prednosti: Ove folije pomažu poboljšati vijek trajanja i pouzdanost uređaja za pohranu podataka.

 

Specifikacija

 

Ime

Meta za prskanje hafnijevim oksidom / keramičke mete HfO2

Materijal

Hafnijev oksid HfO2 keramički materijali

Čistoća

99.9%-99.995%, 3N,3N5,4N,4N5,5N,5N5,6N.

Veličina

Mogućnost dogovora

Boja

Bijela boja

Oblik

Peleti, granule, ravni/okrugli/pločasti/rotirajući/šipkasti, na zahtjev.

Površinski

Polirana površina

Hf gustoća

2227 g/cm3

Hf Talište

1668 stupnjeva

Primjena

PVD film premaz, optički tanki film premaz, uporaba u industriji, proces, područje poluproduktora, eksperimenti itd.

 

Popularni tagovi: hafnij oksid (hfo2) meta za raspršivanje, Kina hafnij oksid (hfo2) meta za raspršivanje dobavljači, tvornica