Čisti cilj prskanja titana
Cilj prskanja čistog titana izrađen je od čistog titana u čistoći od 99 . 5% do 99 . 9999%. Trenutno, za 4- megabit VLSI, čistoća titana je potrebna da dosegne 4N5 (99,995%) ~ 5n (99,999%), dok 16- megabit treća generacija VLSI zahtijeva do 6N99.
Također pružamo metalni cilj i materijal za isparavanje do visoke čistoće 99,9999%, Target dragocjenog metala (AU, AG, PT), uslugu ciljanog vezivanja, Crucible obloge (bakar, molibden, volfram itd.)
Cilj čistog titanijskog raspršivanja ima izvrsnu atmosfersku korozijsku otpornost i neće promijeniti boju nakon dugotrajne uporabe u atmosferi, osiguravajući originalnu boju titana ., stoga se titanij visoke čistoće također može koristiti kao materijali za izradu dekoracija .
Osim toga, posljednjih godina, neki vrhunski ukrasi i neki koji nose članke, poput narukvica, satova i okvira spektakla, izrađeni su od titana, koji koristi karakteristike otpora korozije, promjene boje, dugoročnog održavanja dobrog sjaja, a nesensitacija u kontaktu {} je dosegnuto u {3} u odnosu na čistoću
Specifikacija čistog cilja za raspršivanje titana
|
Razred |
Stupan 1, razred 2 |
|
Tehnika |
Sintering, kovanje, žarenje, valjanje, vakuumiranje, obrada |
|
Čistoća |
99.9%-99.995% |
|
Promjer |
Prilagođen |
|
Debljina |
Prilagođen |
|
Veličina za bar |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 mm) |
|
Veličina za cijev |
Tube (rotirani cilj, OD: 20 mm -160 mm, debljina: 2-20 mm) |
|
Gustoća |
4,5 g/cm3 |
|
Površinski |
Polirano, svijetlo, kemijsko čišćenje, crni oksid itd. . |
|
Oblik |
Disk, ploča, pravokutni, kvadratni, ciljevi stupaca, |
|
Standard |
ASTM B385, GB, JIS |
Slika čistog cilja za ispršivanje titana

Popularni tagovi: Čisti cilj za isprštivanje titana, Kina čisti Titanium Sputters Ciljani dobavljači, tvornica




